超高真空聚焦离子束微研磨及其制品

摘要

本发明公开了一种可以在没有化学辅助的环境下取得高值高宽比的超高真空聚焦离子束微研磨设备及其工艺。一个超高真空腔(10)包括多个通口，用于观察目标衬底，对目标衬底进行镀膜，插入或者操作目标衬底，以及对目标衬底进行各种分析。通口(12)可以是一个具有用于摄影通口的通口(14)。此外，本发明公开了一种采用微研磨工艺制作的耐久的数据存储介质，该耐久的数据存储介质可以存储诸如数字字符或字母字符以及图形形体或图形字符。

主权项

1.一种在目标衬底中制作具有高的高宽比值的工艺，其特征在于包括：将一个目标衬底放在超高真空环境中；产生一个计算机数据文件，该计算机数据文件用于操作计算机控制的聚焦离子束以便在所述目标衬底中形成一个研磨的微结构；以及将所述目标衬底暴置于所述计算机控制的聚焦离子束中，所述计算机控制的聚焦离子束是由软件通过使用计算机数据文件来控制的，从而在所述结构衬底中形成具有高值高宽比的研磨微结构。