| 发明名称 |
Method of manufacturing radiation resistant semiconductor device |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0427285(B1) |
申请公布日期 |
1997.04.23 |
| 申请号 |
EP19900121469 |
申请日期 |
1990.11.09 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA;TOSHIBA MICRO-ELECTRONICS CORPORATION |
发明人 |
HAMA, KAORU |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/28;H01L21/31;H01L21/3115;H01L21/336;H01L21/762;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/311;H01L21/76 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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