| 摘要 |
<p>L'invention concerne un support (10) pour tenir un substrat (12) destiné à un traitement photolithographique. Le support a une surface avant à laquelle adhère le substrat. Cette surface avant a une pluralité d'ouvertures d'aspiration pour tenir le substrat. La surface arrière du support a une pluralité de dispositifs (16) de régulation de la température espacés d'une manière uniforme pour moduler la répartition de la température sur la surface avant, ce qui permet une expansion et une contraction contrôlées du substrat adhérant à la surface avant. L'invention concerne également un procédé pour ajuster l'échelle du substrat.</p> |
