发明名称 三低级烷氧基苯衍生物
摘要 本发明涉及由一般式(I)(见摘要附图)(式中:R1、R2及R3可相同或不同,为低级烷基。A为由-CH-或-N-表示的基团。R4及R5可相同或不同,为低级烷基、芳烷基或芳基。但R4和R5与邻接氮原子连成一体,可形成吡咯烷基、哌啶子基、吗啉代基、硫代码啉基或者4位由低级烷基取代的哌嗪基)表示的三低级烷氧基苯衍生物、其盐、其光学活性体或其溶剂化物、含这些化合物的医药组合物、这些化合物的制备方法,本发明化合物用作肺表面活性物质分泌促进剂。
申请公布号 CN1034570C 申请公布日期 1997.04.16
申请号 CN95100367.4 申请日期 1991.10.25
申请人 山之内制药株式会社 发明人 原弘;丸山龙也;齐藤宗敏;间濑年康
分类号 C07C233/11;C07D295/145 主分类号 C07C233/11
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 陈文青
主权项 1.一种由以下一般式(Ia)表示的三低级烷氧基苯衍生物的制备方法,<img file="C9510036700021.GIF" wi="958" he="233" />式中:R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、及R<sup>3</sup>:相同或不同,为低级烷基,R<sup>4</sup>及R<sup>5</sup>:相同或不同,为低级烷基、芳烷基或芳基,但R<sup>4</sup>和R<sup>5</sup>与邻接氮原子连在一起时形成吡咯烷基、哌啶子基、吗啉代基、硫代吗啉基、或者4位可由低级烷基取代的哌嗪基,包括由以下一般式(II)表示的丁腈化合物水解来制备该衍生物,<img file="C9510036700022.GIF" wi="978" he="228" />其中R<sup>1</sup>,R<sup>2</sup>,R<sup>3</sup>,R<sup>4</sup>,和R<sup>5</sup>的定义同上。
地址 日本东京都