Projection optical system and exposure apparatus using the same,申请号EP19950114540-传众专利搜索

发明名称	Projection optical system and exposure apparatus using the same
摘要
申请公布号	EP0721150(A3)	申请公布日期	1997.04.09
申请号	EP19950114540	申请日期	1995.09.15
申请人	NIKON CORPORATION	发明人	MATSUZAWA, HITOSHI;KOBAYASHI, MISAKO;ENDO, KAZUMASA;SUENAGA, YUTAKA
分类号	G02B9/62;G02B13/22;G02B13/24;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20	主分类号	G02B9/62
代理机构		代理人
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