摘要 |
COMPOSICIONES PROTECTORAS DE LUZ QUE CONTIENEN UN COMPUESTO DE LA FORMULA (I), DONDE R1 REPRESENTA H, C1 C2 29 SUSTITUIDO DE OXI-ALQUILO INFERIOR O ALQUILO INFERIOR; R2 REPRESENTA H, C1 INILO, OPCIONALMENTE FENILO SUSTITUIDO DE OXI-ALQUILO INFERIOR O ALQUILO INFERIOR; R3 REPRESENTA H, C1 NILO, C2 OXI-ALQUILO INFERIOR O ALQUILO INFERIOR U OPCIONALMENTE PIRIDILO SUSTITUIDO DE OXI-ALQUILO INFERIOR O ALQUILO INFERIOR, UN RESIDUO DE POLIETER, UN RESIDUO DE ACIDO FENILSULFONICO Y R2 Y R3 CONJUNTAMENTE CON EL ATOMO N PUEDE FORMAR TAMBIEN UN ANILLO.
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