| 发明名称 |
Chemical vapor deposition method for forming a deposited film with the use of a liquid raw material and apparatus suitable for practising said method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0548990(B1) |
申请公布日期 |
1997.03.12 |
| 申请号 |
EP19920122039 |
申请日期 |
1992.12.28 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
ASABA, TETSUO,;MAKINO, KENJI |
| 分类号 |
C23C16/18;C23C16/40;C23C16/448;(IPC1-7):C23C16/44;C23C16/20 |
主分类号 |
C23C16/18 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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