发明名称 | 成像装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种成像装置。本发明成像装置包括感光元件、充电元件、曝光装置、显影装置和电荷清除装置。其中,所述感光元件包括导电基底和有机感光膜,含有二种电荷发生材料,该两种材料具有彼此不同光吸收特性和彼此不同的显示最大光吸收的波长;所述电荷清除装置包括用于向有机感光膜发光,该光的波长范围在相当于二个电荷发生材料中至少一个的最大光吸收一半的波长之间。 | ||
申请公布号 | CN1144918A | 申请公布日期 | 1997.03.12 |
申请号 | CN95106309.X | 申请日期 | 1995.05.31 |
申请人 | 三田工业株式会社 | 发明人 | 田中作白 |
分类号 | G03G15/02 | 主分类号 | G03G15/02 |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 张天舒 |
主权项 | 1.成像装置,其特征是:包括旋转感光元件、充电装置、曝光装置、显影装置和电荷清除装置,其中,所述旋转感光元件包括:导电基底和在该基底表面上的有机感光膜,含有二种电荷发生材料,该两种电荷发生材料具有彼此不同的光吸收特性和彼此不同的显示最大光吸收的波长;所述充电装置用于对有机感光膜充电,该充电装置处于感光元件附近;所述曝光装置用于对由充电装置充过电的有机感光膜发光;所述显影装置处于沿感光元件的旋转方向、相对于曝光装置的下游;以及所述电荷清除装置包括用于向有机感光膜发光、以便使有机感光膜表面电位均匀化的光源,该光的波长范围在相当于二个电荷发生材料中至少一个的最大光吸收一半的波长之间。 | ||
地址 | 日本大阪府大阪市 |