发明名称 | 成像装置 | ||
摘要 | 本发明成像装置由下列构件组成:包括可旋转的感光构件;充电器件;电荷去除器件;光辐射装置用于辐射光到处于由充电器件充电状态下的感光膜层的充电区域,并用于调节所辐射的光量;曝光器件;显影器件;变化量检测器件,用于检测感光膜层的充电电势和感光膜层灵敏度其中至少一个的变化量;以及补偿装置,由光辐射器件根据变化量检测器件所测得的结果,通过调整向充电区域所辐射的光量来补偿变化量。 | ||
申请公布号 | CN1144919A | 申请公布日期 | 1997.03.12 |
申请号 | CN95106310.3 | 申请日期 | 1995.05.31 |
申请人 | 三田工业株式会社 | 发明人 | 辻田充司;田中作白;田中裕二;寺田幸史;寺田卓司 |
分类号 | G03G15/02 | 主分类号 | G03G15/02 |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 张天舒 |
主权项 | 1.成像装置,由下列构件组成:—可旋转的感光构件,包括一个导电基体和一个设置在基体表面的感光膜层;—设置在感光构件邻近,用于充电感光膜层的充电装置;—电荷去除装置处于沿感光构件旋转方向相对于充电装置的上游,用来在充电装置进行充电之前向感光膜层辐射光,以使感光膜层的表面电势均匀一致;—光辐射装置,用于辐射光到处于由充电装置充电状态下的感光膜层的充电区域,并用于调节所辐射的光量;—曝光装置,用于向处于被充电状态下的感光膜层辐射相应于图像的光;—显影装置,设置在沿感光构件旋转方向相对于曝光装置的下游;—变化量检测装置,用来检测感光膜层充电电势和感光膜层灵敏度至少其中一个的变化量;—补偿装置,由光辐射装置根据变化量检测装置所测得的结果通过调整向充电区域所辐射的光量来补偿变化量。 | ||
地址 | 日本大阪府大阪市 |