ZIRCONIA DISK SUBSTRATE HAVING HIGH SURFACE FINISH,申请号US1996013157-传众专利搜索

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发明名称	ZIRCONIA DISK SUBSTRATE HAVING HIGH SURFACE FINISH
摘要	<p>This invention relates to polishing YTZP zirconia disk substrates with colloidal silica to achieve a surface roughness Ra of no more than 8 angstroms.</p>
申请公布号	WO1997008689(A1)	申请公布日期	1997.03.06
申请号	US1996013157	申请日期	1996.08.13
申请人		发明人
分类号		主分类号
代理机构		代理人
主权项
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