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发明名称 Method of fabricating semiconductor devices and integrated circuits using sidewall spacer technology
摘要
申请公布号 EP0506287(B1) 申请公布日期 1997.03.05
申请号 EP19920302308 申请日期 1992.03.18
申请人 AT&T CORP. 发明人 CHEN, MIN-LIANG;CHITTIPEDDI, SAILESH;KOOK, TAEHO;POWELL, RICHARD ALLYN;KUMAR ROY, PRADIP
分类号 H01L27/115;H01L29/78;H01L21/28;H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/28;H01L29/43 主分类号 H01L27/115
代理机构 代理人
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