| 发明名称 | 成像材料，制备该材料的方法及使用该材料的成像方法 | ||
| 摘要 | 一种成像材料，包括一个基底和位于所述基底上的含有着色颗粒和粘合剂的成像层，该成像层在λ<SUB>max</SUB>处的光密度为每1μm成像层厚度3.0或大于3.0，λ<SUB>max</SUB>为在成像层的光谱吸收范围波长350-1200nm内产生最大光密度的波长，其中，图像通过消除成像材料的成像层曝光部分形成。 | ||
| 申请公布号 | CN1144345A | 申请公布日期 | 1997.03.05 |
| 申请号 | CN96102538.7 | 申请日期 | 1996.02.17 |
| 申请人 | 柯尼卡株式会社 | 发明人 | 竹山敏久;胜田爱;河村朋己;泷本正高;后藤良孝 |
| 分类号 | G03G5/00 | 主分类号 | G03G5/00 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 李晓舒 |
| 主权项 | 1、一种成像材料，包括一个基底和位于所述基底上的含有着色颗粒和粘合剂的成像层，该成像层在λmax处的光密度为每1μm成像层厚度3.0或大于3.0，λmax为在成像层的光谱吸收波长350-1200nm内产生最大光密度的波长，其中，图像通过消除成像材料的成像层曝光部分形成。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||