| 发明名称 |
FORMATION OF PHOTORESIST LAYER AND APPARATUS THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0954990(A) |
申请公布日期 |
1997.02.25 |
| 申请号 |
JP19950229648 |
申请日期 |
1995.08.15 |
| 申请人 |
MITSUBISHI CHEM CORP |
发明人 |
KUWANA MINORU;NAKANO TAKAYOSHI |
| 分类号 |
G03F7/16;G11B7/26;(IPC1-7):G11B7/26 |
主分类号 |
G03F7/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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