| 发明名称 |
PROCEDE ET DISPOSITIF DE FORMATION DE TROUS DANS UNE COUCHE DE MATERIAU PHOTOSENSIBLE, EN PARTICULIER POUR LA FABRICATION DE SOURCES D'ELECTRONS |
| 摘要 |
<P>Procède et dispositif de formation de trous dans une couche de matériau photosensible, en particulier pour la fabrication de sources d'électrons.<BR/>Ce procédé se caractérise en ce qu'on plaque sur la couche de matériau photosensible (120) un masque (121) avec des microperforations (122); on insole la couche de matériau photosensible (120) à travers le masque (120) pour impressionner des zones (125) correspondant aux microperforations (122); on sépare le masque (121) de la couche de matériau photosensible (120) ainsi insolée, et on développe la couche photosensible (120) pour y former des trous correspondant aux zones insolées (125).</P> |
| 申请公布号 |
FR2737927(A1) |
申请公布日期 |
1997.02.21 |
| 申请号 |
FR19950009879 |
申请日期 |
1995.08.17 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
IDA MICHEL;MONTMAYEUL BRIGITTE |
| 分类号 |
G03F1/20;H01J9/02;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F1/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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