首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Methode zur Reduktion der Oberflächenreflektivität einer Metallschicht während der Bearbeitung eines Halbleiterbauteils
摘要
申请公布号 DE68927628(D1) 申请公布日期 1997.02.20
申请号 DE1989627628 申请日期 1989.10.27
申请人 SGS-THOMSON MICROELECTRONICS, INC., CARROLLTON, TEX., US 发明人 CHEN, FUSEN, DALLAS TEXAS 775252, US;LIN, YIH-SHUNG, CARROLLTON TEXAS 75010, US;LIOU, FU-TAI, CARROLLTON TEXAS 75016, US
分类号 H01L21/302;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/3065;H01L21/321;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/00;H01L21/31 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com