首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zum Herstellen einer Titansilizidschicht auf einer Halbleiterschicht
摘要
申请公布号 DE69121451(T2) 申请公布日期 1997.02.20
申请号 DE19916021451T 申请日期 1991.04.16
申请人 APPLIED MATERIALS, INC., SANTA CLARA, CALIF., US 发明人 NULMAN, JAIM, PALO ALTO, CA 94306, US
分类号 H01L21/00;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/306;H01L21/336;(IPC1-7):H01L21/285;H01L21/324 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com