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经营范围
发明名称
高速高压双极晶体管
摘要
一种高速高压双极晶体管,是具有新型横向结构的栅辅助晶体管(GAT)。在芯片平面上看,其基区的电极引出区是与栅区有重叠或部分重叠的许多孤立区域,这些孤立区域分布成列,每列中的各个引出区又相互隔开;同时,发射区包围在各个基区电极引出区的周围,呈网状分布。该结构减少了原有GAT基区电极引出区的面积,增大了发射区有效面积和周长,从而显著地提高了GAT单位面积平均电流容量,降低了GAT管芯的制造成本,可使GAT实现产品化和商品化。
申请公布号
CN2247872Y
申请公布日期
1997.02.19
申请号
CN96208688.6
申请日期
1996.05.22
申请人
北京工业大学
发明人
亢宝位;吴郁
分类号
H01L29/70
主分类号
H01L29/70
代理机构
代理人
主权项
1.一种高速高压栅辅助晶体管,包含发射区(6)、基区(1)、栅区(2)和集电区(5),栅区由基区延伸入集电区中并具有与基区相同的半导体型号,其特征在于:在芯片平面上,基区电极引出区(10)是与栅区( 5,17)有重叠的许多孤立区域,这些孤立区域分布成列,每列中的各个引出区又相互隔开;同时,发射区(11)包围在各个基区电极引出区的周围,呈网状分布,且其内边界(16)与基区电极引出区之间具有间隔。
地址
100022北京市朝阳区平乐园100号
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