| 发明名称 |
FORMATION OF TWIN WELL OF SEMICONDUCTOR ELEMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0945794(A) |
申请公布日期 |
1997.02.14 |
| 申请号 |
JP19960002246 |
申请日期 |
1996.01.10 |
| 申请人 |
L JII SEMICON CO LTD |
发明人 |
RI MASATADA;KIN SHIYOUKAN |
| 分类号 |
H01L27/08;H01L21/265;H01L21/266;H01L21/8238;H01L27/092;(IPC1-7):H01L21/823 |
主分类号 |
H01L27/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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