BARRAS DE PLASMA INTERFACIALES PARA APARATO DE DEPOSICION FOTOVOLTAICO.

摘要

EN UN APARATO CONTINUO PARA LA DEPOSICION POR DESCARGAS LUMINISCENTES DE PILAS SOLARES DE UNA ALEACION DE SILICIO AMORFO CON UNA CONFIGURACION TIPO P-I-N EN UNA PLURALIDAD DE CAMARAS DE DEPOSICION DEDICADAS, INTERCONECTADAS (28, 30, 32), UNA BARRA DE PLASMA (80A-D) COLOCADA DE MANERA OPERATIVA ENTRE AL MENOS LAS REGIONES DE PLASMA EN QUE SE DEPOSITAN LOS PARES DE CAPAS DEL MATERIAL DE ALEACION DE SILICIO AMORFO QUE DEFINEN LA UNION ENTRE SEMICONDUCTORES PRINCIPAL DE LA PILA SOLAR. LA BARRA DE PLASMA (80A-D) SE ENCUENTRA ADAPTADA PARA INICIAR UN PLASMA PARA ASI PREVENIR QUE LOS CONTAMINANTES QUIMICAMENTE ABSORBIDOS AFECTEN DE MANERA PERJUDICIAL A LA SUPERFICIE DE LA PRIMERA CAPA DEPOSITADA DEL PAR DE CAPAS, LO QUE MEJORA LA TENSION EN CIRCUITO ABIERTO DE LA PILA SOLAR. DE MANERA PARECIDA, LA BARRA DE PLASMA (80A-D) SE PUEDE ENCONTRAR COLOCADA TAMBIEN ENTRE LOS PARES DE CAPAS DEL MATERIAL DE ALEACION DE SILICIO AMORFO QUE SE COMBINAN PARA DEFINIR LA UNION ENTRE SEMICONDUCTORES SECUNDARIA DE LA PILA SOLAR. FINALMENTE, PUEDE HABER UNA BARRA DE PLASMA (80A-D) COLOCADA ENTRE LA CAPA BASADA EN OXIDO DE UN REFLECTOR POSTERIOR PAR REDUCIR LA CONTAMINACION DE OXIGENO DEL MATERIAL DE ALEACION DE SILICIO DEPOSITADO SOBRE LA MISMA.