简化彩色滤镜之制程及其结构

摘要

本发明揭示利用背面曝光方式来简化彩色滤镜之制程结构。一般制造彩色滤镜的制程是需要三道对准曝光的过程来完成 R.G.B三色的图形(Pattern)。而本发明是在最后一道曝光过程中，以背面曝光方式来进行，如此一来就无须对准，直接将被曝光的面板(Panel)放在背面曝光机上面，利用本身之遮光层(Black Matrix)的遮光效应和Pattern完毕之彩色滤镜的感光差异性来曝出第三层颜色的彩色滤镜。

主权项

1. 一种彩色滤镜之结构,包括: 基板(Glass), 位于基板上条状或格状之遮光层(Black Matrix), 第一层颜色的滤镜(1st Color Layer Filter)与第二层颜色的滤镜(2ndColor Layer Filter)间隔排列并有部份覆盖于遮光层之上,但第一与第二层颜色的滤镜不会重叠(Overlap), 第三层颜色的滤镜(3rd Color Layer Filter),其与第一、二层颜色的滤镜并不重叠,也不会覆盖于遮光层之上,其图案(Pattern)之外围与遮光层是紧密相切的, 保护层(Over Coat Layer),覆盖于上述结构之上, 氧化铟锡层(ITO Layer),覆盖于保护层之上。2. 一种彩色滤镜之制程,包括: 在基板上涂布第一层颜料分散的负型光阻, 预烤, 覆盖上一层遮氧层(Oxygen Barrier), 烤乾, 对准,正面曝光, 显影,显现出图案(Pattern), 重覆(1)至(6)之步骤,形成第二层图案(Pattern), 均匀地涂布上第三层颜料分散的负型光阻, 重覆(2)至(4)之步骤, 直接进行背面曝光,(7)显影,显现出图案(Pattern)。3. 一种彩色滤镜之制程,包括: 在基板上涂布第一层颜料分散的负型光阻, 预烤, 对准,正面曝光, 显影,显现出图案(Pattern), 重覆(1)至(4)之步骤,形成第二层图案(Pattern), 均匀地涂布上第三层颜料分散的负型光阻, 预烤, 直接进行背面曝光, 显影,显现出图案(Pattern)。4.如申请资料范围第1.2或3所述之彩色滤镜,其中之各层滤镜的颜料,包括: 红色的颜料(Red Pigment),其粒径大小,小于1um, 绿色的颜料(Green Pigment),其料径大小,小于1um, 蓝色的颜料(Blue Pigment),其粒径大小,小于1um。图示简单说明:图1是传统之制造彩色滤镜之制程步骤。(a)涂布第一层颜料分散的负型光阻。(b)涂布上遮氧膜(Oxygen Barrier)。(c)正面曝光。(d)显影后,形成之图案(Pattern)。(e)重覆(a)-(d)之制程,形成第二层颜色之图案(Pattern)。(f)重覆(a)-(d)之制程,形成第三层颜色之图案(Pattern)。图2是本发明之制造彩色滤镜之制程步骤。(a)涂布第一层颜料分散的负型光阻。(b)涂布上遮氧膜(Oxygen Barrier)。(c)正面曝光。(d)显影后形成第一层颜色之图案(Pattern)。(e)重覆(a)-(d)之制程,形成第二层颜色之图案(Pattern)。(f)涂布第三层颜料色分散的负型光阻。(g)涂布上遮氧膜。(h)背面曝光。(i)显影后,形成之第三层颜色之图案。图3是以本发明之制程所获得之彩色滤镜的样品(Sample)照片。(a)有光阻残留(Residual)。(b)无光阻残留。11':遮光层(Black Matrix)12':基板(Glass)13':第一层颜料分散的负型光阻(1st PigmentDispersed Negative Photoresist)14':遮氧膜(Oxygen Barrier)15':光罩(Photo Mask)16':紫外光(i-line波长)17':第一层颜色之图案(1st Color Layer Pattern)18':第二层颜色之图案(2nd Color Layer Pattern)19':第三层颜色之图案(3rd Color Layer Pattern)11:遮光层(Black Matrix)12:基板(Glass)13:第一层颜料分散的负型光阻(1st Pigment DispersedNegative Photoresist)14:遮氧膜(Oxygen Barrier)15:光罩(PhotoMask)16:紫外光(i-line波长)17:第一层颜色之图案(1stColor Layer Pattern)18:第二层颜色之图案(2nd Color LayerPattern)19:第三层颜料分散的负型光阻(3rd PigmentDispersedNegative Photoresist)20:第三层颜色之图案(3rd Color LayerPattern)