| 主权项 |
1.一种于供将部分氧化炉去炉渣之控制氧化过程中监测累积炉渣去除之方法,该反应器具含淬熄水一之淬熄室,其中,该炉渣于部分氧化状态中而累积,其包括(i)在反应器中建立一控制氧化状态,并去除累积炉渣;(ii)监测至少一淬熄室水参数,其择自由pH、导电率,总溶解固体及淬熄水之硫酸盐浓度所组成基团,其中,每一所得上述之参数的变化独立地对应累积炉渣的去除;(iii)收集并记录由监测至少一经选择之淬熄室水参数所得的资料;(iv)在控制氧化状态中,监测所记录之资料以决定;当择自含导电率、总溶解固体及硫酸盐浓度之基团中一参数的最大値被记录时;或作为pH値之最小値被记录时,其间,测量到最大値之后,所记录之测量値系一致且稳定地降低,或在测量到所选择之淬熄室水参数的最小値后,所记录之测量値系一致且稳定地增加时,表示大部分之炉渣已于反应器中去除。2.如申请专利范围第1项之方法,其中,在产生所选择之淬熄室水参数的最大値或最小値后,大部分之炉渣已由反应器中去除,中止所控制之氧化状态,并回复反应器中之部分氧化状态。3.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该炉渣包括至少一种选自钒、钼、钨、铬、锰及钯之过度金属氧化物或硫化物。4.如申请专利范围第3项之方法,其中该炉渣包括钒之氧化物及/或硫化物。5.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该控制氧化条件包括于1000-1500℃以1-10%氧分压于10-200大气压压力操作反应炉2-24小时。6.如申请专利范围第1或2项之方法,其中于pH到达淬熄水pH测量値之最低値后一致稳定地升高,指示大部分的炉渣已经从反应炉去除。7.如申请专利范围第1或2项之方法,其中于淬熄室导电率到最高値后一致稳定地降低,指示大部分的炉渣已经从反应炉去除。8.如申请专利范围第1或2项之方法,其中于淬熄水总溶解固体含量到达最高値后一致稳定降低,指定大部分的炉渣已经从反应炉去除。9.如申请专利范围第1或2项之方法,其中于淬熄室硫酸盐浓度到达最高値后一致稳定降低,指示大部分的炉渣已经从反应炉去除。10.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该等参数系经由将监测设备安装于淬熄水出口管路测量。11.如申请专利范围第1或2项之方法,其中该等参数系藉化验室分析淬熄水样品测量。图示简单说明:第1图为部分氧化反应炉系统之简化代表图。第2图为控制氧化过程中部分氧化反应炉之淬熄水之pH测量进展图。第3图为控制氧化过程中部分氧化反应炉之淬熄水之导电率测量进展图。第4图为控制氧化过程中部分氧化反应炉之淬熄水之总溶解固体测量进展图。第5图为于控制氧化过程中部分氧化反应炉之淬熄之溶解 |
