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发明名称 FORMATION OF SI3N4 FILM AND MIS SEMICONDUCTOR ELEMENT
摘要
申请公布号 JPH098034(A) 申请公布日期 1997.01.10
申请号 JP19950174453 申请日期 1995.06.16
申请人 SONY CORP 发明人 SHIOGAMA HIROAKI
分类号 H01L21/302;H01L21/027;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/318;H01L21/336;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/318 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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