发明名称 Photoempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Mustern unter Verwendung dieser Zusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69027707(T2) 申请公布日期 1997.01.09
申请号 DE1990627707T 申请日期 1990.04.03
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 ONISHI, YASUNOBU, C/O INTELLECTUAL PROPERTYDIV., TOKYO 105, JP;NIKI, HIROKAZU, C/O INTELLECTUAL PROPERTYDIV., TOKYO 105, JP;KOBAYASHI, YOSHIHITO, C/O INTELLECTUAL PROP. DIV., TOKYO 105, JP;HAYASE, RUMIKO, C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIV., TOKYO 105, JP;USHIROGOUCHI, TORU, C/O INTELLECTUAL PROPERTY DIV, TOKYO 105, JP
分类号 G03F7/004;G03F7/038;G03F7/075;(IPC1-7):G03F7/029;G03F7/031 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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