| 发明名称 | 新化合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种化学式如下的可作为药物使用的新的吡唑并吡啶化合物及其可药用的盐，制备该吡唑并吡啶化合物或其盐的方法，含有该吡唑并吡啶化合物或其可药用盐的药物组合物等，式中R<SUP>1</SUP>是芳基，R<SUP>2</SUP>是可以有一个或多个合适的取代基的环(低级)烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN1139928A | 申请公布日期 | 1997.01.08 |
| 申请号 | CN94194724.6 | 申请日期 | 1994.12.26 |
| 申请人 | 藤泽药品工业株式会社 | 发明人 | 赤羽厚;西村伸太郎;井谷弘道;K·P·M·德金 |
| 分类号 | C07D471/04;A61K31/50;//(C07D471/04,231:00,221:00) | 主分类号 | C07D471/04 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 关立新;王景朝 |
| 主权项 | 1.一种化学式如下的吡唑并呲啶化合物及其可药用的盐：其中R1是芳基，R2是可以有一个或多个合适取代基的环(低级)烷基；可以有一个或多个合适取代基的环(低级)烯基；被芳基和酰基取代的低级烷基；可以有一个或多个合适取代基的芳基；可以有一个或多个合适取代基并且含1到4个氟原子的饱和的3-8元杂单环基；可以有一个或多个合适取代基并且含1到4个氮原子的不饱和的3-8元杂单环基；可以有一个或多个合适取代基并且含1到4个氧原子的饱和的3-8元杂单环基；或是可以有一个或多个合适取代基并且含1到4个氧原子的饱和的稠合杂环基。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||