| 发明名称 |
FORMATION OF SILICON OXIDE FILM AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08339995(A) |
申请公布日期 |
1996.12.24 |
| 申请号 |
JP19960054309 |
申请日期 |
1996.03.12 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
发明人 |
SUGIYAMA TATSUO;YANO KOSAKU |
| 分类号 |
C23C16/42;H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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