Verfahren und Vorrichtung für reaktives Heisswand-Ionenätzen unter Verwendung einer dielektrischen oder metallischen Abschirmung mit Temperatursteuerung zur Erzielung von Prozeßstabilität
摘要
申请公布号
DE19506745(C2)
申请公布日期
1996.12.19
申请号
DE1995106745
申请日期
1995.02.27
申请人
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP., ARMONK, N.Y., US
发明人
OEHRLEIN, GOTTLIEB STEFAN, YORKTOWN HEIGHTS, N.Y., US;VENDER, DAVID, EINDHOVEN, NL;ZHANG, YING, PETALUMA, CALIF., US;HAVERLAG, MARCO, HEINDHOVEN, NL
