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发明名称 Process for the simultaneous fabrication of high- and low voltage semiconductor devices, integrated circuit containing the same, systems and methods
摘要
申请公布号 EP0520825(B1) 申请公布日期 1996.12.18
申请号 EP19920305931 申请日期 1992.06.26
申请人 TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED 发明人 SMAYLING, MICHAEL C.
分类号 H01L21/8247;H01L27/105;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L29/788;H01L21/82 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
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