| 发明名称 |
Plasma processing apparatus using plasma produced by microwaves |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
EP0477906(B1) |
申请公布日期 |
1996.12.11 |
| 申请号 |
EP19910116343 |
申请日期 |
1991.09.25 |
| 申请人 |
HITACHI, LTD. |
发明人 |
OHARA, KAZUHIRO;OTSUBO, TORU;SASAKI, ICHIROU |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/511;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01J37/32;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
