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发明名称 Plasma-Entschichtungsverfahren für organische und anorganische Schichten
摘要
申请公布号 DE3855636(D1) 申请公布日期 1996.12.05
申请号 DE19883855636 申请日期 1988.08.29
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 HAYASKA, NOBUO, KANAZAWA-KU YOKOHAMA-SHI KANAGAWA-KEN, JP;ARIKADA, TSUNETOSHI, EDOGAWA-KU TOKYO, JP;OKANO, HARUO, OHTA-KU TOKYO, JP;HORIOKA, KEIJI, TAMA-KU, KAWASAKI-SHI KANAGAWA-KEN, JP
分类号 G03F7/42;H01L21/02;H01L21/3213;(IPC1-7):G03F7/42 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人
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