发明名称 RESIST PROCESSING APPARATUS
摘要
申请公布号 JPH08316138(A) 申请公布日期 1996.11.29
申请号 JP19960097969 申请日期 1996.04.19
申请人 TOKYO ELECTRON LTD;TOKYO ELECTRON KYUSHU KK 发明人 USHIJIMA MITSURU;HIRAKAWA OSAMU
分类号 G03F7/38;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/38
代理机构 代理人
主权项
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