Integrierte Schaltung mit Siliziumkontakt zu einem Silizid,申请号DE1992614792-传众专利搜索

发明名称	Integrierte Schaltung mit Siliziumkontakt zu einem Silizid
摘要
申请公布号	DE69214792(D1)	申请公布日期	1996.11.28
申请号	DE1992614792	申请日期	1992.12.10
申请人	AT & T CORP., NEW YORK, N.Y., US	发明人	LEE, KUO-HUA, WESCOSVILLE, PENNSYLVANIA 18106, US;YU, CHEN-HUA DOUGLAS, ALLENTOWN, PENNSYLVANIA 18103, US
分类号	H01L21/20;H01L21/3215;H01L21/768;H01L23/522;(IPC1-7):H01L21/768;H01L21/285	主分类号	H01L21/20
代理机构		代理人
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