发明名称 HIGH-FREQUENCY-OPERATED MAGNETRON GLOW DISCHARGE IONISATION PROCESS AND ION SOURCE
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ionisation von Probenmaterial, bei dem mittels einer hochfrequenzbetriebenen Magnetron-Glimmentladung ein Plasma an einem das Probenmaterial enthaltenden Target erzeugt und mit Hilfe eines Sputtergases Probenmaterial zur Weitergabe an ein Massenspektrometer aus dem Target herausgelöst und ionisiert wird. Dabei wird an der Oberfläche des Targets ein magnetisches Feld derart gebildet, daß die magnetischen Feldlinien im Plasmabereich eine Orientierung zur Targetoberfläche hin aufweisen. Es ist vorteilhaft, an der vom Plasma abgewandten Targetseite einen Magneten vorzusehen, der so angeordnet wird, daß die magnetischen Feldlinien im Plasmabereich eine Orientirung zur Targetoberfläche hin aufweisen.</p>
申请公布号 WO1996037905(A1) 申请公布日期 1996.11.28
申请号 DE1996000938 申请日期 1996.05.21
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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