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发明名称 Verfahren zur Bor-Diffusion in Halbleiterwafern
摘要
申请公布号 DE69122815(D1) 申请公布日期 1996.11.28
申请号 DE1991622815 申请日期 1991.07.29
申请人 SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 KATAYAMA, MASATAKE, TAKASAKI-SHI, GUNMA-KEN, JP;FUJIYA, SHOICHI, ANNAKA-SHI, GUNMA-KEN, JP;MOROGA, ISAO, ANNAKA-SHI, GUNMA-KEN, JP;SHINOMIYA, MASARU, ANNAKA-SHI, GUNMA-KEN, JP
分类号 H01L21/225;(IPC1-7):H01L21/225;H01L21/22 主分类号 H01L21/225
代理机构 代理人
主权项
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