| 发明名称 |
MANUFACTURE OF WAFER FOR CALIBRATION WITH FLAWLESS LAYER OF DEPTH DETERMINED CORRECTLY AND WAFER FOR CALIBRATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08298233(A) |
申请公布日期 |
1996.11.12 |
| 申请号 |
JP19960037378 |
申请日期 |
1996.01.31 |
| 申请人 |
S II H AMERICA INC |
发明人 |
UITOWATSUTO UIJIYARANAKURA |
| 分类号 |
H01L21/66;C30B33/00;G01B11/06;H01L21/02;H01L21/322;H01L23/544;(IPC1-7):H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/66 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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