发明名称 旋转式黏合之装置与方法
摘要 一种用于黏合至少二层连续移动之基质织物之装置与方法,本发明之装置包含(1)一旋转之黏合滚筒,其结着黏合轴旋转,(2)一旋转之砧座滚筒,其绕着一砧座轴旋转,前述之二层连续移动之基质织物被导入通过前述二滚轮之间隙,前述砧座滚筒之外表面压迫前述之二层连续移动之基质织物抵靠着前述之黏合滚筒之外表面,而将该二层连续移动之基质织物结合在一起,(3)一枢轴支持机构,该机构使得前述之砧座滚筒可枢轴转动,因而砧座滴筒表面与黏合滚筒表面几乎平行,而旋加于黏合滚筒之外表面之力,在横跨于砧座滚筒之宽度上,其力量几乎为定值,因而,通过前述二滚筒之间隙之二层织物之黏合面积几乎为定值。
申请公布号 TW290603 申请公布日期 1996.11.11
申请号 TW084106381 申请日期 1995.06.21
申请人 金百利克拉克股份有限公司 发明人 汤姆.D.艾勒特;诺曼.R.史堤基劳门
分类号 B32B31/04;D06H5/00 主分类号 B32B31/04
代理机构 代理人 黄静嘉 台北巿忠孝东路四段五六三号十楼
主权项 1. 一种旋转式黏合装置,其用于黏合至少二层连续 移动 之基质织物之装置,系包含: (A) 一转动之黏合滚筒,其绕着一黏合轴旋转,并且 其有 一外黏合表面,前述之基质织物通过该外黏合表面 而移动 ; (B) 一旋转砧座滚筒,其有一砧座滚筒外表面,并且, 其 绕着砧座轴旋转而压迫前述之黏合滚筒之外黏合 表面,而 将前述之基质织物黏合在一起; (C) 一枢轴支持装置,其可枢轴转动,其连接至前述 之砧 座滚筒,因而能够连续地调整前述之砧座滚筒外表 面,使 得前述之砧座滚筒外表面与前述之黏合滚筒之外 黏合表面 几乎平行。2. 如申请专利范围第1项所述之装置, 其中前述之黏合滚 筒包含一旋转之超音波旋臂,而将前述之基质织物 黏合在 一起。3. 如申请专利范围第1项所述之装置,其中 前述之转动之 黏合滚筒系被加热而将前述之基质织物热结合在 一起。4. 如申请专利范围第1项所述之装置,其中 前述之旋转砧 座滚筒之砧座滚筒外表面上有多数突出物,该突出 物为用 于黏合前述之基质织物之黏合位置,该黏合位置排 列成一 种预定之图案。5. 一种旋转式超音波黏合装置,其 用于黏合至少二层连 续移动基质织物之装置,系包含: (A) 一提供超音波能量之超音波黏合装置,其包含 一旋转 超音波悬臂,该超音波悬臂绕着一黏合轴旋转,并 且,其 有外黏合表面,前述之基质织物通过该外黏合表面 ; (B) 一刚性支架; (C) 一砧座滚筒支持架,其可枢轴转动地连接至前 述之刚 性支架上之枢轴点,该枢轴点位于一枢轴上; (D) 一旋转之砧座滚筒,其有一砧座滚筒外表面,并 且, 其可旋转地连接至前述之砧座滚筒支持架;该砧座 滚筒绕 着一砧座轴旋转,并且,其压迫前述之基质织物抵 靠着前 述之旋转超音波悬臂之外黏合外表面,因而将前述 之基质 织物黏合在一起;并且,前述之砧座滚筒支持架可 绕着前 述之枢轴转动,使得前述之砧座滚筒外表面与前述 之旋转 超音波悬臂之外黏合表面几乎平行。6. 如申请专 利范围第5项所述之装置,其中前述之旋转砧 座滚筒之前述之砧座滚筒表面有多数突出物,该突 出物为 黏合前述之基质织物之黏合位置,该黏合位置排列 成一种 预定之图案。7. 如申请专利范围第6项所述之装置 ,其中该黏合图案之 宽度至少约为1cm。8. 如申请专利范围第5项所述之 装置,其中前述之砧座支 持架可绕着前述之枢轴旋转,使得前述之基质织物 几乎维 持固定之黏合面积百分比。9. 如申请专利范围第5 项所述之装置,其中前述之砧座滚 筒之支持架之前述之枢轴与前述之黏合轴之距离 为第一距 离,前述之砧座滚筒之砧座轴与前述之黏合轴之距 离为第 二距离,其中,第二距离大于前述之第一距离。10. 如申请专利范围第5项所述之装置,更包含至少一 止 动销,其用以控制前述之砧座滚筒支持架之枢轴转 动量。11. 一种旋转式黏合方法,其用于黏合至少 二层连续移动 之基质织物之方法,系包含下列步骤: (A) 供给至少两层之连续移动之基质织物,该基质 织物沿 着一基质路径移动; (B) 提供一转动之黏合滚筒,其邻接于前述之基质 路径, 该黏合滚筒有一外黏合表面,前述之基质织物则沿 着该外 黏合表面移动; (C) 前述之黏合滚筒,其绕着一黏合轴转动; (D) 提供一旋转之砧座滚筒,其邻接于前述之基质 路径, 该砧座滚筒具有一砧座滚筒外表面,并且,其具有 一砧座 滚筒宽度,该砧座滚筒绕着一砧座轴转动,并且,其 压迫 前述之基质织物抵靠着前述之黏合滚筒之外黏合 表面,因 而将前述之基质织物黏合在一起; (E) 提供枢轴转动方式支持前述之砧座滚筒,因此 可以连 续地调整前述之砧座轴,使得前述之砧座表面与前 述之黏 合表面几乎维持平行。12. 如申请专利范围第11项 所述之方法,其中供给前述二 层基质织物之步骤可包含供给至少一非织造材料 。13. 如申请专利范围第11项所述之方法,其中供给 前述二 层基质织物之步骤可包含供给至少一弹性材料。 14. 如申请专利范围第11项所述之方法,其中提给一 转动 之黏合滚筒之步骤包含提供一超音波黏合装置,该 超音波 黏合装置含有一旋转超音波悬臂。15. 如申请专利 范围第11项所述之方法,其中前述之提供 旋转之砧座滚筒之步骤,更包含前述之砧座滚筒之 砧座滚 筒表面有多数突出物,该突出物为前述之基质织物 之黏合 位置,该黏合位置排列成一预定之黏合图案,该黏 合图案 之宽度至少为1cm。16. 如申请专利范围第11项所述 之方法,其中前述之提供 旋转砧座滚筒与前述之提供枢轴转动方式支持前 述之砧座 滚筒之步骤,其中,在前述之基质织物间,可几乎维 持固 定百分比之黏合面积。17. 如申请专利范例第16项 所述之方法,其中前述之基质 织物之黏合百分比具有约0至5之标准偏差。18. 如 申请专利范围第11项所述之方法,提供枢轴支持方 式支持前述之砧座滚筒之步骤中,其中所施加于前 述黏合 滚筒之前述黏合表面之力,在横跨于前述之砧座滚 筒宽度 上几乎为定値。19. 如申请专利范例第11项所述之 方法,其中以枢轴转动 方式支持之前述砧座滚筒之步骤,包含提供一砧座 滚筒支 持架,其可枢轴旋转地连接至一刚性支架之二枢轴 点,该 枢轴点位于一枢轴上,其中,该砧座滚筒支持架可 绕前述 之枢轴旋动,因而前述之砧座滚筒外表面与前述之 黏合滚 筒之外黏合表面几乎互相平行。20. 如申请专利范 围第19项所述之方法,其中提供前述之 砧座滚筒支持架与前述刚性支架之步骤,包含将前 述之砧 座支持架之枢轴置于与前述之黏合轴相距第一距 离之置, 以及将前述之砧座轴放置于与前述之黏合轴相距 第二距离 之位置,其中前述之第二距离之长度大于前述之第 一距离 。图示简单说明: 图1A为本发明装置之实施例之正视图。 图1B为图1A之侧视图。 图2A为本发明之装置之砧座滚筒之一实施例。 图2B为本发明之装置之砧座滚筒之一实施例。 图2C为本发明之装置与方法所生产之复合基质织 物之范例 图。 图3A为本发明之装置之另一实施例之正视图。 图3B为图3A之侧视图。 图4为使用本发明装置与方法所生产之吸收性物件 。 图5A为本发明之装置之砧座滚筒之黏合图案之一 形式。 图5B为本发明之装置之砧座滚筒之黏合图案之另 一形式。 图6为使用传统方法与本发明之装置所得之黏合面 积百分
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