PHOTOREACTION QUENCHERS IN ON-PRESS DEVELOPABLE LITHOGRAPHICPRINTING PLATES

摘要

Cette invention porte sur une plaque lithographique, comprenant un substrat et une photorésine polymère photodurcissement, comme celles faisant appel à des mécanismes de photodurcissement par polymérisation radicalaire. Dans le but de restreindre une activité non souhaitée et préjudiciable des radicaux libres excédentaires, un mode de réalisation de la plaque d'impression prévoit l'addition d'un système de régulation de radicaux libres. Dans un mode de réalisation particulier, ce système est constitué d'une couche de recouvrement translucide, comprenant un polymère possédant un groupe pendant de piégeage de radicaux libres. Un polymère particulier destiné à cette couche est représenté par la formule (a) dans laquelle m a un pourcentage pondéral compris entre approximativement 20 et 95 et n, un pourcentage pondéral compris entre approximativement 0 et 75. Ce polymère, qui est capable de désactiver des radicaux libres produits de manière actinique dans la photorésine à la suite d'une exposition, est soluble dans une solution de mouillage ou d'encre, et n'est pas compatible avec la photorésine.