| 发明名称 |
Procédé de métallisation d'un circuit intégré. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2709207(B1) |
申请公布日期 |
1996.10.25 |
| 申请号 |
FR19940002273 |
申请日期 |
1994.02.28 |
| 申请人 |
INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH |
发明人 |
KUANG-CHAO CHEN;SHAW TZENG HSIA |
| 分类号 |
C23C14/34;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/74;H01L21/768;H01L23/52;H01L23/522;H01L23/532;(IPC1-7):H01L21/768 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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