发明名称 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für die Belichtung mit DUV-Strahlung
摘要
申请公布号 DE59108159(D1) 申请公布日期 1996.10.17
申请号 DE19915008159 申请日期 1991.04.29
申请人 HOECHST AG, 65929 FRANKFURT, DE 发明人 ROESCHERT, HORST, DR. DIPL.-CHEM., W-6531 OBER-HILBERSHEIM, DE;PAWLOWSKI, GEORG, DR. DIPL.-CHEM., W-6200 WIESBADEN, DE;MERREM, HANS-JOACHIM, DR. DIPL.-CHEM., BASKING RIDGE, N.J. 07920, US;DAMMEL, RALPH, DR. DIPL.-CHEM., W-6501 KLEIN-WINTERNHEIM, DE;SPIESS, WALTER, DR. DIPL.-PHYS., W-6110 DIEBURG, DE
分类号 G03F7/004;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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