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LA PRESENTE INVENCION ESTA RELACIONADA CON LA DEPOSICION DE REVESTIMIENTO QUE CONTIENEN SILICIO Y OXIGENO DE UNA RESINA DE SILSESQUIOXANO DE HIDROGENO EVAPORADO. EL PROCESO COMPRENDE LA INTRODUCCION DEL VAPOR DE SILSESQUIOXANO DE HIDROGENO EN UNA CAMARA DE DEPOSICION QUE CONTIENE EL SUBSTRATO A REVESTIR Y, A CONTINUACION, LA REACCION DE INDUCCION DEL VAPOR PARA FORMAR EL REVESTIMIENTO.
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