负光抗蚀刻剂组成物

摘要

一种负光抗蚀刻剂组成物，它包含有：（Ａ）５０至９５重量％之硷可溶性树脂，其含有至少一种选自经部份烷基醚化作用的聚乙烯苯酚（其有１０至３５％之烷基醚化比率）和经部份烷基醚化的氢化聚乙烯苯（其有５至３０％之烷基醚化比率）酚；（Ｂ）１至２０重量％之一种光引发酸前质，它含有至少一种Ｎ－羟基亚胺化合物的磺酸酯类；以及（Ｃ）１至３０重量％之作为交联剂之六羟甲基三聚氰胺六甲醚；其中Ｎ－羟基亚胺化合物的磺酸酯类可由以下化学式（Ｉ）来表示：□ (Ⅰ)其中Ｒ１是Ｃ6-10伸芳基或Ｃ1-6伸烷基，而Ｒ２是未经取代或经非氟之卤素取代的Ｃ1-6烷基 ， 或Ｃ6-10芳基。

主权项

1. 一种负光抗蚀刻剂组成物,它包含有:(A) 50至95重量%之硷可溶性树脂,其含有至少一种选自经部份烷基醚化作用的聚乙烯苯酚(其有10至35%之烷基醚化比率)和经部份烷基醚化的氢化聚乙烯苯(其有5至30%之烷基醚化比率)酚;(B) 1至20重量%之一种光引发酸前质,它含有至少一种N-羟基亚胺化合物的磺酸酯类;以及(C) 1至30重量%之作为交联剂之六羟甲基三聚氰胺六甲醚;其中N-羟基亚胺化合物的磺酸酯类可由以下化学式(I)来表示:其中R@su1是C@ss6@ss-@ss1@ss0伸芳基或C@ss1@ss-@ss6伸烷基,而R@su2是未经取代或经非氟之卤素取代的C@ss1