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1. 一种沈淀矽石,其特征为具有以下物化参数:BET表面积 35至350㎡/gBET/CTAB表面积比 0.8至1.1孔隙体积,PV 1.6至3.4ml/g矽烷醇基密度(V@ss2=NaOH耗量) 6至20ml平均聚集尺寸 250至1500nmCTAB表面积 30至350㎡/gDBP値 150至300ml/100gV@ss2/V@ss1,以Hg孔隙度 0.19至0.46DBP/CTAB 1.2至2.42. 一种用来制造具有以下物化参数之沈淀矽石之方法:BET表面积 35至350㎡/gBET/CTAB表面积比 0.8至1.1孔隙体积,PV 1.6至3.4ml/g矽烷醇基密度(V@ss2=NaOH耗量) 6至20ml平均聚集尺寸 250至1500nmCTAB表面积 30至350㎡/gDBP値 150至300ml/100gV@ss2/V@ss1,以Hg孔隙度 0.19至0.46DBP/CTAB 1.2至2.4此方法包括:将硷金属矽酸盐溶液以水稀释至pH値为8至9;把浓硫酸和相同的硷金属矽酸盐溶液同时加入该SiO@ss2含量@fc(1.math4)V4.9g/@bs3(之稀释的硷金属矽酸盐溶液,同时维持pH値为8至9,温度为60至95℃;令反应持续进行至沈淀悬浮液中固体浓度为90至120g/@bs3(;及将pH値调整为@fc(1.math4)V5,再将沈淀矽石过滤、清洗、乾燥、并选择性研磨或制粒,其中该同时添加硷金属矽酸盐溶液与硫酸之步骤可在至多160分钟之期间(沈淀期)进行。3. 如申请专利范围第2项之方法,其中该同时添加硷金属矽酸盐溶液与硫酸之步骤可在90分钟以上之期间(沈淀期)进行。4. 如申请专利范围第2项之方法,其中该同时添加硷金属矽酸盐溶液与硫酸之步骤可在30至90分钟之期间(沈淀期)进行。5. 如申请专利范围第1项之沈淀矽石,系用于可硫化之橡胶化合物及硫化橡胶(vulcanisates)中作为填料。图示简单说明:图1:CTB与DBP比;图2至4:CTAB与DBP之比;图5:CTAB与V@ss2/V@ss1之比; |
