| 发明名称 |
PREPARATION OF FORMATION OF TITANIUM SILICIDE OF MINUTE TITANIUM NITRIDATION FILM AND MINUTE TITANIUM NITRIDATION FILM THIN FILM AND SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08264448(A) |
申请公布日期 |
1996.10.11 |
| 申请号 |
JP19950079355 |
申请日期 |
1995.03.13 |
| 申请人 |
L JII SEMIKON CO LTD |
发明人 |
ZON SU BIYON;HAKU NAMU KIMU |
| 分类号 |
C23C14/06;C23C14/08;C23C14/34;C23C14/58;H01L21/203;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;H01L21/822;H01L27/04;(IPC1-7):H01L21/203 |
主分类号 |
C23C14/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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