| 发明名称 |
METHOD OF ACCUMULATING METAL OXIDE THIN FILM BY CHEMICAL VAPOR PHASE GROWTH ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08264485(A) |
申请公布日期 |
1996.10.11 |
| 申请号 |
JP19960056191 |
申请日期 |
1996.03.13 |
| 申请人 |
TEXAS INSTR INC <TI> |
发明人 |
MAAKU HANPUDEN SUMISU;TOIBO KODASU |
| 分类号 |
H01L21/285;C23C16/40;C23C16/448;H01L21/314;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/285 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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