| 摘要 |
<p>Bei dem Verfahren zur Reinigung des Austrittsfensters (4) eines gepulsten Laserstrahls ist ein Wasserstrahl (6) auf das Austrittsfenster (4) gerichtet. Um ein Verfahren zu schaffen, mit dem bei periodischer Reinigung des Austrittsfensters (4) eine hohe Laserenergie für den Abtragvorgang übertragen werden kann, ist vorgesehen, daß die Richtung des Wasserstrahls (6) änderbar ist, wobei der Wasserstrahl (6) in der Pause zwischen zwei Laserpulsen auf das Austrittsfenster (4) gerichtet und während eines Laserpulses vom Austrittsfenster (4) weggerichtet wird.</p> |
