深亚微米X射线光刻装置

摘要

一种用于微电子器件制造的深亚微米X射线光刻装置包括一个脉冲等离子体软X射线源、一个台上有掩模和样片的光刻工作台、真空设备、相关电源及控制系统等，其特点在于：在软X光源和光刻工作台之间加一整体准平行束软X光透镜，该透镜为一个单一的、没有支撑部件的多孔玻璃固体，内有多个从所述固体一端贯通到另一端的X光导孔，且该玻璃固体由X光导孔壁自身熔合而成。本实用新型具有X射线利用率高、光刻离位失真和半影模糊小的优点。

主权项

1.一种深亚微米X射线光刻装置，包括一个脉冲等离子体软X射线源、一个台上有掩模和图形的光刻工作台、真空设备、相关电源及控制系统等，其特征在于：在软X光源和光刻工作台之间加一整体准平行束软X光透镜。