首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
摘要
申请公布号 DE4445344(C2) 申请公布日期 1996.10.02
申请号 DE19944445344 申请日期 1994.12.19
申请人 ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE, DAEJEON, KR;KOREA TELECOMMUNICATION AUTHORITY, SEOUL/SOUL, KR 发明人 RYUM, BYUNG-RYUL, DAEJEON, KR;HAN, TAE-HYEON, DAEJEON, KR;LEE, SOO-MIN, DAEJEON, KR;CHO, DEOK-HO, DAEJEON, KR;LEE, SEONG-HEARN, DAEJEON, KR;KANG, JIN-YOUNG, DAEJEON, KR
分类号 H01L21/331;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/76;H01L29/73;H01L27/12;H01L21/20;H01L21/84 主分类号 H01L21/331
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com