| 发明名称 |
RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08254819(A) |
申请公布日期 |
1996.10.01 |
| 申请号 |
JP19950055829 |
申请日期 |
1995.03.15 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
SAKAMIZU TOSHIO;SHIRAISHI HIROSHI;MURAI FUMIO |
| 分类号 |
G03F7/004;C08F2/46;C08F2/54;C08L101/00;C08L101/12;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027;H01L21/312;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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