PROCEDIMIENTO PARA LA ELIMINACION DE MATERIAL EXCEDENTE DE UNA CAMARA PARA LA DEPOSICION POR CHISPORROTEO Y DISPOSITIVO PARA LA REALIZACION DEL MISMO.

摘要

METODO PARA LA LIMPIEZA EN SITU DEL EXCESO DEL MATERIAL DEPOSITADO EN EL ANODO, EN UNA CAMARA DE DEPOSICION FISICA DE VAPOR (14), DURANTE UN CICLO DE LIMPIEZA, EN LA QUE SE HA EFECTUADO EL VACIO EN DICHA CAMARA (14) . UNA MEZCLA DE GAS QUE INCLUYE UN GAS REACTIVO, SE INTRODUCE DENTRO DE LA CAMARA DE DEPOSITO FISICO DE VAPOR (14). EL GAS REACTIVO SE ACTIVA MEDIANTE LA DESCARGA DE PLASMA. DURANTE LA LIMPIEZA, LA MEZCLA DE GAS ES CAMBIADA DE FORMA CONTINUA EN LA CAMARA DE DEPOSICION DE VAPOR (14), JUNTO CON LOS PRODUCTOS DE REACCION.