| 发明名称 |
PRECISELY CONTROLLED DEPOSITION OF OXYGEN IN SILICON |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08253392(A) |
申请公布日期 |
1996.10.01 |
| 申请号 |
JP19960056054 |
申请日期 |
1996.03.13 |
| 申请人 |
M II M C ELECTRON MATERIALS INC |
发明人 |
ROBAATO FUORUSUTAA |
| 分类号 |
C30B29/06;C30B33/00;C30B33/02;H01L21/322;(IPC1-7):C30B29/06 |
主分类号 |
C30B29/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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