| 发明名称 |
ELECTRON BEAM EXPOSURE PROCESS FOR WRITING A PATTERN ON AN OBJECT BY AN ELECTRON BEAM WITH A COMPENSATION OF THE PROXIMITY EFFECT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR960013137(B1) |
申请公布日期 |
1996.09.30 |
| 申请号 |
KR19920014289 |
申请日期 |
1992.08.08 |
| 申请人 |
FUJITSU KK. |
发明人 |
DAKAHASI, YASUSI;YASUDA, HIROSHI |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/302;H01J37/317;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/30 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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